光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

MDA-12SA光刻機產地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-12SA

MDA-12SA光刻機操作簡單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方，電動操縱桿控制，電動變焦顯微鏡和工作臺，顯微鏡位置控制系統

•操縱桿控制，半自動

•掩模版尺寸高達14英寸

•基板尺寸8~12英寸

•均勻光束尺寸13.25*13.25英寸

•紫外線光源：紫外線燈，2 kW，5 kW

•光束波長：350~450 nm

•光束均勻性：<±5%

•365 nm強度：2 kW:~25 mW/?，5 kW:~45 mW/?

•定位方法：操縱桿控制，半自動

•對準精度：1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸