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隨著微電子技術和納米技術的快速發展，光刻技術成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術。尤其是半自動光刻機，憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式，已經在許多高精度微加工領域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術通過利用光敏材料（光刻膠）在紫外光或激光照射下發生化學...
激光直寫提高工作量和用戶安全程度激光直寫光刻機是桌面型高分辨率激光光刻系統，它通過固定連續的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結構，直寫面積高達4英寸，特征尺寸（寬度）可達1微米。激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學聚焦系統，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統的靈活...
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