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狹縫擠出型涂布機，適用于高精度大面積表面涂布，平板型或 卷對卷涂布。應用領域：大學科研，柔性基板，觸摸屏等。

派瑞林真空鍍膜機，用于隔熱的門加熱器：最高 200 °C。汽化溫度設置：最多 10 步（溫度和時間）。

等離子體增強化學氣相沉積，通常選用射頻淋浴源(RF)或帶有不規則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產生等粒子體。

等離子體增強原子層沉積系，原子層沉積是在一個加熱反應的襯底上連續引入至少兩種氣相前驅體源，化學吸附至表面飽和時自動終止，適當的過程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。一個基本的原子層沉積循環包括四個步驟：脈沖A，清洗A，脈沖B和清洗B。沉積循環不斷重復直至獲得所需的薄膜厚度，是制作納米結構從而形成納米器件較佳的工具。

MOKE系統：超高真空系統用于對超薄磁膜和多層電子束蒸發的薄膜沉積進行現場實時磁光克爾效應研究。

多功能鍍膜系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。

MBE 系統根據蒸發源的類型和數量以及基板大小，可提供不同的標準襯底尺寸：直徑300mm、直徑450mm 和 直徑570mm（根據要求的其他尺寸）。

TPD系統用于測量超薄薄膜吸附/脫吸的獨立系統，能夠在較寬溫范圍內進行高精度溫度控制。