納米顆粒和薄膜UHV沉積系統是一種超高真空 PVD 系統，能夠產生納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。 服務于廣泛的應用，包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。該UHV 沉積系統可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜UHV沉積系統主要特點:

• 通過結合納米顆粒和薄膜生成復雜材料

• 使用 NL-UHV 的無烴納米顆粒

• UHV 系統，帶負載鎖定、烘烤和泵送升級選項

• 渦輪/干式前級泵送組合

• 共聚焦端口幾何結構，最多可容納 5 個源

• 與第三方來源兼容

• 具有旋轉、加熱和偏置選項的基材涂層

• 聯鎖裝置，保護人員和設備

• 全自動和配方驅動的軟件

基本系統配置:

沉積室的大小 : 450 毫米

基礎壓力 :< 5e– 7托

取向 : 濺射

示例表 : 4 英寸晶圓，20rpm 旋轉，Z 軸偏移，用于樣品裝載/卸載

泵 : 300 升/秒渦輪增壓器，7.2 米3/hr 干式前級泵

閥 : 手動閥、百葉窗和線性驅動器

控制軟件 : 配方驅動過程、電源控制和數據記錄

原位監測 : 用于過程監控和終點檢測的石英晶體微量天平

源端口 : 多達 5 個沉積源2 個共聚焦 CF150 和 3 個共聚焦 CF100 源端口

源類型 : 納米顆粒源 /磁控濺射源、微型電子束蒸發器、熱舟源、K 池、離子源、射頻原子源

選項:

• 5e– 9Torr 極限壓力（帶烘烤選項）

• 樣品臺：

– 用于納米粒子加速的直流偏壓

– 用于樣品表面清潔的射頻偏置

– 加熱至 800°C

• 泵送 – 700l/s 渦輪增壓器

• 帶傳輸臂的單獨泵送負載鎖

• 系統烘焙

• 閥門、百葉窗和線性驅動器的自動化選項

• 渦輪前方的可調節擋板，以增加動態壓力范圍，以便在較低氣體流量下進行濺射

NEXUS 系統配置選項

控制軟件

Spectrum Software 手冊

直觀的“拖放"用戶界面易于使用，并允許自動化的抽真空和沉積序列。

突出

? 全自動抽空和排氣

? 配置虛擬機架以適合您的流程

? 易于添加和刪除儀器

? 實時圖表

? 聯鎖監控

? 配方控制

? 數據記錄功能