Q-One型納米級離子注入系統， 優良的納米級離子注入平臺

Q-One納米級離子注入系統是一種具有納米級精度的確定性單離子注入的最新工具。這是一種全新的設計，功能強大的FIB，能夠以驚人的精度和前所的未有的速度定位單個離子。

Q-One具有許多強大的功能，是制造量子器件和優良材料工程的優良系統。

快速、可擴展的設備制造

Q-One比SPM（掃描探針顯微鏡）技術快許多數量級，它可以在短短幾秒鐘內產生數百萬個精確定位的原子陣列。

納米精度

Q-One具有20納米聚焦離子束和1納米光學編碼器的壓電驅動級，提供了最終的精確離子放置。

植入多種元素

液態金屬離子源和質量過濾柱可選擇和植入40多種不同元素。雙等離子體源也可用于氧和氮摻雜。

雙離子束

高分辨率電子柱可提供高達4nm的詳細成像，用于現場驗證和過程控制。

應用

單離子注入

量子器件制造與研究

納米材料工程

光子系統

存儲設備

成功案例

單離子多物種低能定位項目

作為單離子多物種低能定位項目的一部分， 2018年在英國 Surrey Ion Beam Centre安裝了第一批兩臺同類儀器。

PLATFORM FOR NANOSCALE ADVANCED MATERIALS ENGINEERING

Q-One系統成為英國Henry Royce研究所，納米優良材料工程新平臺的核心。