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隨著微電子技術和納米技術的快速發展,光刻技術成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經在許多高精度微加工領域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發生化學...
皮可安培計轉動線圈式電流表轉動線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度,它只能用于直流,但加一整流器(rectifier)也可用于交流。基本簡介:?測量電路中電流強度的儀器,也叫安培表、電流表。主要類型有轉動線圈式電流表、轉動鐵片式電流表、熱偶式電流表以及熱線式電流表轉動線圈式電流表轉動線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度,它只能用于直流,但加一整流器(rectifier)也可用于交流。皮可安培計...
多功能磁控濺射儀在所有的小型高真空鍍膜設備中,此設備功能強大,性能價格比非常好。鍍膜方式包含了熱蒸發,電子束蒸發和磁控濺射沉積。由于它的模塊化設計,使得多數研發人員用起來非常方便,針對各種樣品易于轉換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。主要性能指標:極限壓力≤2.0x10-5Pa;基片結構設計6個工位;樣品尺寸:Ф30mm,可放置6片;運動方式:0-360°;...
開爾文探針掃描是一種基于振動電容的非接觸無損氣相環境金屬表面電位的測量技術,用于測量材料的功函數(WorkFunction)或表面勢(SurfacePotential)。它可以用于檢測氣相環境中因溫度、濕度、表面的化學、電學、力學、晶體、吸附、成膜等因素引起的材料表面電勢的微小變化,是一種高靈敏的表面電化學分析技術,是能夠測定氣相環境中腐蝕電極表面電位的方法。特點:(1)高速高分辨電位分布測量功能。(2)快速變化電位分布測量功能。(3)低噪聲電位分布測量功能。(4)智能調試功...
磁濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜,亦可鍍鐵磁材料。磁濺射鍍膜機主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。真空鍍膜技術作為一種產生特定膜層的技術,在現實生產生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術發展來的磁控濺射鍍膜的原理及相應工藝的研究。濺射屬于PDV(物...
磁控濺射鍍膜機是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜機原理:磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以...
激光直寫技術是一種近年來應用廣泛的超精密加工技術。該技術是一種利用強度可變的激光束,在基片表面實施有規則的高精度掃描。在掃描過程中,光刻基片隨載物平臺而運動。因此影響光刻元件的質量取決于載物平臺的定位精度以及運動的穩定性,影響光刻元件的快速性取決于系統的響應度。基于數字式伺服的運動控制器是超精密定位系統的關鍵。由于數字伺服濾波器是數字式伺服的運動控制器的核心,從而數字伺服濾波器的設計將影響系統的定位精度。數字伺服濾波器是指系統的閉環控制與調節采用數字技術,所有控制調節實現軟件...
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